Person

Prof. Dr. rer. nat.

Reinhart Poprawe

M.A.(Calif. State Univ.), rongyu jiaoshou(Qinghua University in Beijing)(honorary professor)

Lehrstuhlinhaber

Professor Reinhart Poprawe
Lehrstuhl für Lasertechnik

Adresse

Gebäude: Fraunhofer ILT

Raum: 2045

Steinbachstr. 15

52074 Aachen

Kontakt

workPhone
Telefon: +49 241 8906 110
Fax: +49 241 8906 112
 

Kurzbiographie

Prof. Dr. Reinhart Poprawe erhielt 1977 einen Master in Physik von der California State University in Fresno. Nach dem Diplomabschluss und seiner Promotion in Physik (Darmstadt 1984) begann er seine Arbeit am Fraunhofer Institut für Lasertechnik in Aachen als Abteilungsleiter „Laser-Orientierte Verfahrensentwicklung“ 1985. Von 1989 bis 1/1996 war er Geschäftsführer der Thyssen Laser Technik GmbH in Aachen. Seit Februar 1996 ist er Direktor des Fraunhofer Instituts für Lasertechnik und Professor für Lasertechnik an der RWTH Aachen-University. Prof. Poprawe ist Fellow in diversen wissenschaftlichen Vereinigungen, so in der Society of Manufacturing Engineers in USA SME (1998), im Laser Institute of America LIA (2006) und in der SPIE (2012). Er ist Boardmitglied des Laser Institute of America (LIA) und Mitglied in zahlreichen nationalen und internationalen Boards als Gutachter oder Berater, z.B. im National Laser Centre of South Africa NLC. Zwischen 09/2005 und 09/2008 war er Pro-Rektor für Struktur, Forschung und wissenschaftlichen Nachwuchs. Er ist Vorsitzender des RWTH-International Board und Rektoratsbeauftragter für China und erhielt 2014 eine Honorarprofessur der renommierten Tsinghua University in Peking und wurde mit dem Schawlow Award des Laser Institute of America in 2014 ausgezeichnet.

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Expertise

Laseranwendung:
Bohren, Trennen, Fügen (Schweißen, Löten), Oberflächenveredelung, Lasergenerieren, Rapid Prototyping, Polieren, direkte Produktion, Mikrotechnik, Systemtechnik, Prozessüberwachung und –regelung, Photonik in den Lebenswissenschaften.

Laserentwicklung:
Diodengepumpte Festkörperlaser, Diodenlaser, Pumpmodule und Verstärkermodule für multisektorielle Anwendung (Informations- und Kommunikationstechnologie, Display, EUV-Lithographie, ps-, fs-Laser), kohärente Kopplung, inkohärente Überlagerung, Strahlformung in Raum und Zeit, Kurzpulslaser, Produktionsverfahren für Diodenlaser.

Plasmatechnik:
Prozess - Sensorik für Laserverfahren, laserinduzierte Plasmen, EUV-Quellen für Lithografie und Mikroskopie, XUV-Quellen, laserinduzierte Stoffanalyse (LIBS).