Forschungsprojekte

 

Der Lehrstuhl betreibt Forschung und Entwicklung auf den Gebieten der optischen Systeme für Laser und Laseranwendungen, der Freiformoptiken und der EUV-Technologie.

Die Forschung findet unter anderem im Rahmen von zahlreichen, beispielsweise von der Deutschen Forschungsgesellschaft (DFG) und der Europäischen Union (EU) finanzierten, Drittmittelprojekten statt. Im Folgenden werden ausgewählte Projekte kurz vorgestellt.

 
 

Exzellenzcluster

Logo Exzellenzcluster

Exzellenzcluster Internet of Production

Als Mitglied im Exzellenzcluster Internet of Production beschäftigt sich der Lehrstuhl mit integrativen Ansätzen für Produktionstechnik sowie der agilen Produktionsentwicklung. Insgesamt kooperieren mehr als 25 Institute und Forschungseinrichtungen aus den Bereichen Produktion, Materialwissenschaften, Ökonomie, Natur- und Sozialwissenschaften in diesem von der DFG geförderten Exzellenzcluster.

 
 

DPP

Logo Digital Photonic Production

Forschungscampus Digital Photonic Production

Im Rahmen des vom BMBF geförderten Forschungscampus Digital Photonic Production erarbeitet der Lehrstuhl innovative Ansätze der optischen Systemtechnik für die Bereiche Ultrakurzpulsbearbeitung, generative Fertigungsverfahren und Funktionalisierung von Oberflächen.

 
 
 

ultraSurface

Logo ultraSurface

Ultra Dynamic Optical Systems for High Throughput Laser Surface Processing

Im Rahmen des EU Projektes ultraSurface (en) entwickelt der Lehrstuhl hochdynamische optische Systeme zur Anpassung der relativen Strahl-/ und Fokuspositionen bei Vielstrahl-Anwendungen sowie zur Generierung kontinuierlicher Intensitätsverteilungen bei Einzelstrahl-Anwendungen.

 
 

MultiFlex

Logo MultiFlex

MultiFlex

In einem Zusammenschluss von Industrie- und Forschungspartnern beschäftigt sich der Lehrstuhl im EU Projekt MultiFlex mit der Untersuchung und Entwicklung einer neuartigen hochgeschwindigkeits Multistrahlanwendung mittels Ultrakurzpulslaserstrahlung. Hierbei sollen Leistungen im Kilowatt-Bereich bei individuell modulierbaren Einzelstrahlen realisiert werden und das System letztendlich in einer industriellen Maschine integriert werden.

 
 

TAPES3

Logo TAPES3

TAPES3

Das Ziel des ECSEL EU Projekts TAPES3 besteht darin, die Fortführung des Mooreschen Gesetzes im Einklang mit der weltweiten Roadmap für die Industrie zu unterstützen. Der Schwerpunkt liegt auf der Erforschung und Vorbereitung von neuen Innovationen, die erforderlich sind, um die Industrietechnologien in den Bereichen Lithografie, Strukturierung, Messtechnik, Maskeninfrastruktur und Prozessmodulen auf das für die Herstellung von 3-nm-Produkten erforderlicher Niveau zu bringen. Die EUV-Technologie Gruppe der RWTH trägt zu dem Teilaufgabenbereich der „EUV Maskeninfrastruktur“ bei. Hierbei werden die an der RWTH bereits verfügbaren aktinischen Metrologieanlagen und die entsprechenden Analysealgorithmen weiter entwickelt. Die Forschungsarbeiten zu den Messverfahren werden es ermöglichen, die Stöchiometrie, Qualität und Langzeitstabilität der neuartigen Materialien der zukünftigen 3-nm-Halbleiterherstellung zu bestimmen.