Repetitive plasma focus as radiation source for X-ray lithography

New York, NY / American Inst. of Physics (1989) [Buchbeitrag, Beitrag zu einem Tagungsband]

AIP conference proceedings. - 195
Seite(n): 515-521

Autorinnen und Autoren

Autorinnen und Autoren

Richter, F.
Eberle, J.
Holz, R.
Neff, W.
Lebert, R.

Identifikationsnummern

  • REPORT NUMBER: RWTH-CONV-191445