Actinic EUV-Mask metrology: tools, concepts, components
Bellingham, Wa / SPIE (2011) [Buchbeitrag, Beitrag zu einem Tagungsband]
27th European Mask and Lithography Conference : 18 - 19 January 2011, Dresden, Germany / organized by VDE/VDI GMM - the Society for Microelectronics, Micro- and Precision Engineering (Germany). Uwe F. W. Behringer, ed.
Seite(n): 79850-B, 6 S.
Autorinnen und Autoren
Ausgewählte Autorinnen und Autoren
Lebert, Rainer
Farahzadi, Azadeh
Diete, Wolfgang
Schäfer, David
Phiesel, Wolfgang
Weitere Autorinnen und Autoren
Wilhein, Thomas
Herbert, Stefan
Maryasov, Aleksey
Juschkin, Larissa
Esser, Dominik
Hoefer, Marko
Hoffmann, Dieter
Identifikationsnummern
- DOI: 10.1117/12.896266
- REPORT NUMBER: RWTH-CONV-194407