Power scaling of an extreme ultraviolet light source for future lithography

Wagenaars, Erik; Küpper, Felix Alexander; Klein, Jürgen; Neff, Willi; Damen, Marcel; van de Wel, Pieter; Vaudrevange, Dominik; Jonkers, Jeroen

Melville, NY : AIP (2008)
Fachzeitschriftenartikel

In: Applied physics letters
Band: 92
Heft: 18
Seite(n)/Artikel-Nr.: 181501

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