Preliminary results from key experiments on sources for EUV lithography

Amsterdam [u.a.] / Elsevier (2001) [Fachzeitschriftenartikel]

Microelectronic engineering
Band: 57/58
Seite(n): 87-92

Autorinnen und Autoren

Ausgewählte Autorinnen und Autoren

Lebert, R.
Aschke, L.
Bergmann, K.
Dusterer, S.
Gäbel, K.

Weitere Autorinnen und Autoren

Hoffmann, D.
Loosen, Peter
Neff, Willi
Nickles, P.
Rosier, O.
Poprawe, Reinhart
Rudolph, D.
Sandner, W.
Sauerbrey, R.
Schmahl, G.
Schwoerer, H.
Stiehl, H.
Will, I.
Ziener, C.

Identifikationsnummern