Preliminary results from key experiments on sources for EUV lithography

Lebert, R.; Aschke, L.; Bergmann, K.; Dusterer, S.; Gäbel, K.; Hoffmann, D.; Loosen, Peter; Neff, Willi; Nickles, P.; Rosier, O.; Poprawe, Reinhart; Rudolph, D.; Sandner, W.; Sauerbrey, R.; Schmahl, G.; Schwoerer, H.; Stiehl, H.; Will, I.; Ziener, C.

Amsterdam [u.a.] : Elsevier (2001)
Fachzeitschriftenartikel

In: Microelectronic engineering
Band: 57/58
Seite(n)/Artikel-Nr.: 87-92

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