A multi-kilohertz pinch plasma radiation source for extreme ultraviolet lithography

Amsterdam [u.a.] / Elsevier (2001) [Fachzeitschriftenartikel]

Microelectronic engineering
Band: 57/58
Seite(n): 71-77

Autorinnen und Autoren

Autorinnen und Autoren

Bergmann, Klaus
Rosier, Oliver
Lebert, Rainer
Neff, Willi
Poprawe, Reinhart

Identifikationsnummern