A multi-kilohertz pinch plasma radiation source for extreme ultraviolet lithography

Bergmann, Klaus; Rosier, Oliver; Lebert, Rainer; Neff, Willi; Poprawe, Reinhart

Amsterdam [u.a.] : Elsevier (2001)
Fachzeitschriftenartikel

In: Microelectronic engineering
Band: 57/58
Seite(n)/Artikel-Nr.: 71-77

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