CCl4-assisted CF4 etching of silicon in a microwave-assisted LDE (laser dry etching)-process
Amsterdam [u.a.] / North-Holland (1996) [Beitrag zu einem Tagungsband, Fachzeitschriftenartikel]
Applied surface science
Band: 96-98
Ausgabe: 2
Seite(n): 496-500
Autorinnen und Autoren
Autorinnen und Autoren
Pfleging, Wilhelm
Wesner, David A.
Kreutz, Ernst Wolfgang
Identifikationsnummern
- DOI: 10.1016/0169-4332(95)00502-1
- REPORT NUMBER: RWTH-CONV-038256