Nano- and Microstructuring of SiO(2) and Sapphire with Fs-laser Induced Selective Etching
Osaka / Japan Laser Processing Society (2009) [Fachzeitschriftenartikel]
Journal of laser micro/nanoengineering
Band: 4
Ausgabe: 2
Seite(n): 135-140
Autorinnen und Autoren
Autorinnen und Autoren
Hörstmann-Jungemann, Maren
Gottmann, Jens
Wortmann, Dirk
Identifikationsnummern
- DOI: 10.2961/jlmn.2009.02.0011
- REPORT NUMBER: RWTH-CONV-065968