Pinch-plasma radiation source for extreme-ultraviolet lithography with a kilohertz repetition frequency

Washington, DC / Optical Society of America (2000) [Fachzeitschriftenartikel]

Applied optics
Band: 39
Ausgabe: 22
Seite(n): 3833-3837

Autorinnen und Autoren

Autorinnen und Autoren

Bergmann, Klaus
Rosier, Oliver
Neff, Willi
Lebert, Rainer

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