Scalability limits of Talbot lithography with plasma-based extreme ultraviolet sources
Bellingham, Wash / SPIE (2013) [Fachzeitschriftenartikel]
Journal of micro/nanolithography, MEMS and MOEMS
Band: 12
Ausgabe: 3
Seite(n): 033002
Autorinnen und Autoren
Autorinnen und Autoren
Danylyuk, Serhiy
Loosen, Peter
Bergmann, Klaus
Kim, Hyun-su
Juschkin, Larissa
Identifikationsnummern
- DOI: 10.1117/1.JMM.12.3.033002
- REPORT NUMBER: RWTH-CONV-076364