The voxel onset time as an in situ method to evaluate focal position effects on two-photon-induced lithography
Berlin / Springer (2015) [Fachzeitschriftenartikel]
Applied physics / A
Band: 121
Ausgabe: 2
Seite(n): 513-519
Autorinnen und Autoren
Autorinnen und Autoren
Engelhardt, Sascha
Tempeler, Jenny
Wehner, Martin
Identifikationsnummern
- DOI: 10.1007/s00339-015-9449-9
- REPORT NUMBER: RWTH-2015-05251